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技術(shù)介紹：
光學(xué)零部件的鍍膜是光學(xué)產(chǎn)品中一個不可或缺的工藝，其可以大大提高光學(xué)零部件的性能，不僅可以提升各類光學(xué)儀器的精度，并且?guī)椭覀儷@得更加優(yōu)異的產(chǎn)品。因此針對鍍膜工藝的要求也越來越高，其中膜厚的精確控制是非常重要的一個環(huán)節(jié)。
目前常用的膜厚控制方法有多種，例如石英晶體振蕩法，單波長極值法，寬光譜掃描法等方法。寬光譜掃描法可以提供在較寬波長范圍內(nèi)監(jiān)控非規(guī)整膜系，而極值法一般要求膜層為規(guī)整膜層。因此寬光譜掃描方法，開始逐漸應(yīng)用到膜厚控制的應(yīng)用當(dāng)中。
寬光譜膜厚控制可以采用垂直光路進(jìn)行透射式或者傾斜光路進(jìn)行反射式的光學(xué)膜厚監(jiān)控。
反射式：
圖1：反射式寬帶膜厚測試簡圖
鍍膜時，因?yàn)檎婵涨粌?nèi)部是一個明亮環(huán)境，接收信號光時會把雜散光也同時測量，從而降低信噪比。因此為了消除雜散光的影響，科學(xué)家們引入斬波器，將信號光進(jìn)行調(diào)制，同時斬波器輸出同步信號觸發(fā)后端的探測器，從而獲得兩次信號，1，信號光+雜散光，2，僅雜散光。因此在監(jiān)控過程中，可以通過兩次信號的相減，有效的去除雜散光。
在接收信號部分為光纖接口的光柵光譜儀，光譜儀出口接有CCD相機(jī)，可以在短時間內(nèi)拍攝較寬譜線范圍（幾十至幾百納米范圍）。
透射式：
圖2：透射式寬帶膜厚測試簡圖
與反射式類似，斬波器同樣將探測光調(diào)制成脈沖光，經(jīng)透鏡組將探測光變?yōu)槠叫泄?，?jīng)待測樣片后獲得類似透射譜的測試。*終探測光由光纖引入到光譜儀進(jìn)行分析。在光路中另一端，經(jīng)過成像系統(tǒng)，用監(jiān)控相機(jī)可以對真空腔內(nèi)部進(jìn)行監(jiān)控。
光譜儀部分可以用CCD寬帶采集，也可以用PMT進(jìn)行掃描。兩者各有優(yōu)勢，CCD可以快速采集寬帶譜線，PMT因?yàn)殪`敏度更高，可以獲得更微弱的信號變化。
近年來，隨著工藝的要求，科學(xué)家也開始關(guān)注近紅外區(qū)域的膜厚測量。
圖3：近紅區(qū)域膜厚監(jiān)控簡圖
上圖中科學(xué)家使用卓立配套銦鎵砷近紅外探測器加Omni-λ300i作為前面所說的光譜儀系統(tǒng)。用Labview軟件組合成實(shí)時監(jiān)控膜厚控制系統(tǒng)。
卓立漢光提供光譜全方位光譜采集系統(tǒng)，有PMT（可見波段范圍檢測），InGaAs（近紅波段范圍探測）
圖4：卓立光譜儀，PMT及InGaAs探測器
有CCD為探測器的光譜儀Omni-λ3008i-iVacN
圖5：卓立Omni-λ3008i-iVacN 與 進(jìn)口深度制冷CCD 完美融合
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光譜分辨率（nm） |
0.11@1800 刻線; 0.37@600 刻線 |
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焦距（mm） |
320 |
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相對孔徑 |
F/4.2 |
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雜散光 |
1X10-5 |
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狹縫規(guī)格 |
縫寬0.01-3mm 連續(xù)手動可調(diào)，可選配自動狹縫 |
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光柵規(guī)格mm |
68X68 |
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光柵臺 |
三光柵 |
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CCD 有效像素 |
2000×256 |
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像素尺寸 |
15×15 |
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寄存器*大容量 |
300,000e- |
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*大光譜采樣率(spectra/s) |
181 |
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讀出噪聲（e，典型值） |
3e- |
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暗電流 |
0.1 e-/pixel/s@-60℃ |
表1：Omni-λ3008i-iVacN主要技術(shù)參數(shù)
引用文獻(xiàn)：
13810146393
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